ASTM F1152-2002 硅片刻槽尺寸的标准测试方法

作者:标准资料网 时间:2024-05-27 10:15:12  浏览:8215   来源:标准资料网

【英文标准名称】:StandardTestMethodforDimensionsofNotchesonSiliconWafers
【原文标准名称】:硅片刻槽尺寸的标准测试方法
【标准号】:ASTMF1152-2002
【标准状态】:作废
【国别】:
【发布日期】:2002
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.06
【标准类型】:(TestMethod)
【标准水平】:()
【中文主题词】:硅氧烷;试验;尺寸;电子工程
【英文主题词】:notch;notchdimension;opticalcomparator;silicon;wafer
【摘要】:ThisstandardwastransferredtoSEMI(www.semi.org)May20031.1Thistestmethodcoversanondestructiveproceduretodeterminewhetherornotthedimensionsoffiducialnotchesonsiliconwafersfallwithinspecifiedlimits.1.2Theva
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:4P.;A4
【正文语种】: